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態(tài)

度

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個(gè)產(chǎn)品，

對(duì)待每一

做到極致認(rèn)真

每一個(gè)零件
細(xì)
致

每一組數(shù)據(jù)

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  • 潔凈烘箱，百級(jí)無(wú)塵烘箱
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HMDS烘箱 HMDS真空烘箱適用于芯片制造的襯底種類(lèi)
來(lái)源: | 作者:雋思半導(dǎo)體設(shè)備部 | 發(fā)布時(shí)間: 2024-05-28 | 816 次瀏覽 | 分享到:

HMDS烘箱 HMDS真空烘箱適用于芯片制造的襯底種類(lèi)：

1、單晶硅片


     目前最普遍的襯底材料，廣泛用于制造集成電路（IC）、微處理器、存儲(chǔ)器、MEMS器件、功率器件等

2、SOI襯底

     用于高性能、低功耗的集成電路，如高頻模擬和數(shù)字電路、RF器件和電源管理芯片。

3、SiGe襯底

    SiGe ，鍺硅，是一種硅和鍺任意摩爾比的合金，分子式為 Si 1? x Ge x，常用外延的方式制作。用于異質(zhì)結(jié)雙極晶體管，混合信號(hào)電路，射頻等領(lǐng)域

4、化合物半導(dǎo)體襯底

    砷化鎵襯底（GaAs ）：微波和毫米波通信器件等

    氮化鎵襯底（GaN ）：用于射頻功率放大器，HEMT等

    碳化硅襯底（SiC ）：用于電動(dòng)汽車(chē)、電源轉(zhuǎn)換器等電力器件

    磷化銦襯底（InP ）：用于激光器、光探測(cè)器等


5、藍(lán)寶石襯底：用于LED制造、RFIC（射頻集成電路）等

6、鍺襯底:用于紅外光電器件等

7、LN（鈮酸鋰）：用于聲表濾波器，mems等

8、LT（鉭酸鋰）：用于聲表濾波器,mems等

9、玻璃基板：用于LCD、OLED、光學(xué)濾波器等

等等

HMDS烘箱 HMDS真空烘箱性能：

    容量：2-12寸晶圓、方片、碎片等

    材質(zhì)：內(nèi)箱采用316L醫(yī)用級(jí)不銹鋼

    工藝溫度：100-150℃

    溫度分辨率：0.1℃

    溫度波動(dòng)度：≤±0.5

    真空度：≤133pa（1torr）

    操作界面：人機(jī)界面，一鍵作業(yè)

    腔內(nèi)分層:2層

    HMDS控制:可控制HMDS藥液的添加量

    圖像處理：圖像反轉(zhuǎn)

    真空泵: 進(jìn)口無(wú)油泵

    保護(hù)裝置：緊急停止，HMDS藥液泄漏報(bào)&警提示，HMDS低液位報(bào)&警，超溫保護(hù)，漏電保護(hù)，過(guò)熱保護(hù)等