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堅(jiān)膜烘箱 百級(jí)潔凈烘箱 氮?dú)鉄o(wú)塵烘箱——光刻之堅(jiān)膜設(shè)備
來(lái)源: | 作者:雋思半導(dǎo)體設(shè)備部 | 發(fā)布時(shí)間: 2024-05-21 | 644 次瀏覽 | 分享到:
堅(jiān)膜烘箱 百級(jí)潔凈烘箱 氮?dú)鉄o(wú)塵烘箱

堅(jiān)膜烘箱 百級(jí)潔凈烘箱 氮?dú)鉄o(wú)塵烘箱注意事項(xiàng)

堅(jiān)膜就是通過(guò)加溫烘烤使膠膜更加牢固的粘附在晶圓表面,并可以增加膠層的抗刻蝕能力的一道光刻膠工藝。

堅(jiān)膜并不是一道必需工藝。如后續(xù)為刻蝕工藝,建議進(jìn)行堅(jiān)膜,來(lái)提高光刻膠的穩(wěn)定性,如果后續(xù) 工藝為lift-off工藝,一般不建議進(jìn)行堅(jiān)膜工藝,因?yàn)閳?jiān)膜后光刻膠穩(wěn)定性提高,反而不利于剝離的進(jìn)行。

另外,一定要注意堅(jiān)膜的溫度,過(guò)高的溫度會(huì)光刻膠結(jié)構(gòu)變形、融化甚至圖形消失。

堅(jiān)膜烘箱 百級(jí)潔凈烘箱 氮?dú)?a href="http://www.gudaihanyu.cn/page87.html?product_category=10" target="_blank">無(wú)塵烘箱光刻膠變化

1)熱變形

非交聯(lián)型光刻膠的結(jié)構(gòu),即顯影后的正膠和圖形反轉(zhuǎn)膠結(jié)構(gòu)在加熱后的軟化溫度取決于前面軟烘烤工藝。

2)溶劑變化

減少殘留溶劑的含量實(shí)際上是勻膠工藝后前烘步驟的意義。然而,在厚膠工藝的情況下,即使是在推薦的前烘條件下,在靠近襯底附近的光刻膠中仍然包含相當(dāng)高的溶劑。

3)光引發(fā)劑熱分解

在正膠情況下,相當(dāng)一部分光引發(fā)劑在120℃下 幾分鐘內(nèi)就會(huì)分解。雖然在顯影后不再需要光引發(fā)劑進(jìn)行光反應(yīng),但在未曝光狀態(tài)下,它有助于提高光刻膠膜在堿性環(huán)境中的穩(wěn)定性,以及用于隨后的濕法蝕刻步驟或在pH值為>7的溶液中進(jìn)行的電鍍工藝。

4)熱交聯(lián)

在正膠情況下,樹(shù)脂在130℃-140℃下熱交聯(lián)強(qiáng)度逐漸增強(qiáng),這可以顯著提高光刻膠對(duì)堿性或有機(jī)溶劑的化學(xué)穩(wěn)定性。

5)光刻膠脆性

在烘烤過(guò)程中,殘余溶劑的含量進(jìn)一步降低以至于光刻膠結(jié)構(gòu)的彈性也隨之降低,同時(shí)光刻膠結(jié)構(gòu)與氧氣反應(yīng),在120 -130℃左右開(kāi)始光刻膠開(kāi)始脆化。光刻膠和襯底材料的不同熱膨脹系數(shù)不同會(huì)導(dǎo)致裂紋的產(chǎn)生。產(chǎn)生的這些光刻膠裂紋對(duì)后續(xù)濕法刻蝕與電鍍的影響是非常不利的。

堅(jiān)膜烘箱 百級(jí)潔凈烘箱 氮?dú)鉄o(wú)塵烘箱工藝特點(diǎn)

如果必須做堅(jiān)膜工藝,可以通過(guò)控制降溫速度來(lái)減小裂紋的形成。例如,通過(guò)隨爐子冷卻來(lái)減小裂紋的產(chǎn)生。出于同樣的原因,烘烤后的襯底應(yīng)小心處理,并應(yīng)避免變形,如襯底彎曲,這些對(duì)于PI膠做鈍化層(PI固化爐)的應(yīng)用顯得尤為重要。

堅(jiān)膜烘箱技術(shù)性能

全周激光滿焊,SUS304#不銹鋼電熱產(chǎn)生器,防機(jī)臺(tái)本身產(chǎn)生微塵;

采用特殊風(fēng)道,水平送風(fēng),溫度均勻性佳;

可定值運(yùn)行,多段程序運(yùn)行;

設(shè)備采用雙腔室一體設(shè)計(jì),獨(dú)立控制,節(jié)省空間;

溫度范圍: RT+10~200、300/400℃;

溫度均勻度:≤±1.5%℃;

潔凈度:class100,適用潔凈間;

設(shè)備尺寸:45*45*50(CM)

計(jì)時(shí)功能:0~ 99H99M可調(diào);

降溫方式:可選配

保溫材料:超細(xì)陶瓷纖維;

隔 板:1-10層;